Vakuumsko posrebrenje pozicioniranje proizvoda

Vakuumsko posrebrenje pozicioniranje proizvoda

Morate odrediti razinu proizvođača opreme za vakuumsko premazivanje prema vlastitom pozicioniranju proizvoda. Ako je vaš proizvod pozicioniran na tržištu srednje do visoke klase, tada morate odabrati opremu srednje do visoke klase. Naprotiv, možete odabrati srednje ili srednje niske. Naravno, ako su sredstva dovoljna, najbolje je kupiti uređaj srednje do visoke klase s boljim performansama i stabilnijom kvalitetom.

Prednosti vakuumskog posrebrenja s velikom kompaktnošću

Kao rezultat toga, pojavila se oprema za nanošenje premaza magnetronskim raspršivanjem, koja integrira tehnologiju kontroliranog raspršivanja i ionskog nanošenja premaza, te pruža rješenje za poboljšanje postojanosti boje i stabilnosti brzine taloženja i sastava spoja. Prema različitim zahtjevima proizvoda, mogu se odabrati sustav grijanja, prednaponski sustav, ionizacijski sustav i drugi uređaji. Distribucija ciljnog položaja može se fleksibilno prilagoditi, a ujednačenost sloja filma je vrhunska. Opremljen različitim materijalima za mete, može se obložiti s boljim performansama. kompozitni film. Film obložen opremom ima prednosti jake kompozitne sile i velike kompaktnosti, što može učinkovito poboljšati otpornost na slani sprej, otpornost na habanje i površinsku tvrdoću proizvoda, te zadovoljiti potrebe za visokoučinkovitom pripremom filma.

Oprema je bogata primjenjivim materijalima i može se koristiti za hardver/plastične dijelove od nehrđajućeg čelika obložen vodom, staklo, keramiku i druge materijale. Ova serija opreme uglavnom se koristi za hardverske dijelove elektroničkih proizvoda, vrhunske satove, vrhunski nakit i hardverske dijelove robne marke kožne galanterije.

Visoka brzina taloženja vakuumske kontrole srebra

Princip kontroliranog raspršivanja Elektroni se sudaraju s atomima argona u procesu ubrzavanja do podloge pod djelovanjem električnog polja, ionizirajući veliki broj argonovih iona i elektrona, a elektroni lete prema podlozi. Ioni argona ubrzavaju bombardiranje mete pod djelovanjem električnog polja, raspršujući veliki broj ciljnih atoma, a neutralni ciljni atomi (ili molekule) talože se na podlogu kako bi formirali film. Pod utjecajem Lorentzove sile kompozitni oblik zavojnice i cikloide čini seriju kružnih gibanja na ciljnoj površini. Elektron ne samo da ima dugu stazu gibanja, već se također emitira prema teoriji elektromagnetskog polja u području plazme blizu ciljne površine. Unutra, velika količina Ar je ionizirana u ovom području kako bi bombardirala metu, tako da je brzina taloženja koju kontrolira oprema za presvlačenje magnetskim raspršivanjem visoka.

www.superbheater.com