Oprema za vakuumsku galvanizaciju magnetronsko raspršivanje teške mete

Oprema za vakuumsku galvanizaciju magnetronsko raspršivanje teške mete

Ciljni izvor se dijeli na uravnotežene i neuravnotežene vrste. Uravnoteženi ciljni izvor ima ujednačenu prevlaku, a neuravnoteženi ciljni izvor ima snažnu vezu s podlogom. Uravnoteženi ciljni izvori uglavnom se koriste za poluvodičke optičke filmove, a neuravnoteženi mete uglavnom se koriste za trošne dekorativne filmove.

Bez obzira na ravnotežu i neravnotežu, ako magnet miruje, njegove karakteristike magnetskog polja određuju da je ciljna stopa iskorištenja općenito manja od 30 posto. Kako bi se povećala stopa iskorištenja ciljanog materijala, može se koristiti rotirajuće magnetsko polje. Međutim, rotirajuće magnetsko polje zahtijeva rotirajući mehanizam, a brzina raspršivanja bi se trebala smanjiti u isto vrijeme. Rotirajuća magnetska polja uglavnom se koriste za velike ili skupe

Teška meta. Kao što je raspršivanje poluvodičkog filma. Za malu opremu i opću industrijsku opremu često se koristi izvor statičke mete magnetskog polja.

Lako je raspršivati ​​metale i legure pomoću magnetronskih meta izvora, a paljenje i raspršivanje su prikladni. To je zato što meta (katoda), plazma i vakuumska komora raspršenog dijela mogu formirati krug. Ali ako raspršite izolatore kao što je keramika, strujni krug je prekinut.

Oprema za vakuumsku galvanizaciju magnetronsko raspršivanje uključuje mnoge vrste

Postoje mnoge vrste magnetronskog raspršivanja vakuumskog premaza. Svaki ima različite principe rada i objekte primjene. Ali imaju jednu zajedničku stvar: interakcija magnetskog polja s elektronima uzrokuje spiralno kretanje elektrona oko ciljne površine, čime se povećava vjerojatnost da će elektroni pogoditi plin argon i proizvesti ione. Mjesto

Generirani ioni udaraju u površinu mete pod djelovanjem električnog polja i raspršuju metu.

U razvoju posljednjih desetljeća postupno su usvojeni trajni magneti, a magneti zavojnice se rijetko koriste.

www.superbheater.com