Priprema ultračiste vode elektroničkim čišćenjem opreme za ultračistu vodu

Priprema ultračiste vode elektroničkim čišćenjem opreme za ultračistu vodu

1. Sustav predtretmana → sustav reverzne osmoze → srednji spremnik za vodu → grubi miješani sloj → fini miješani sloj → spremnik čiste vode → pumpa čiste vode → ultraljubičasti sterilizator → poliranje miješanog sloja → precizni filtar → vodeni objekt (Veći od ili jednak 18M Ω. CM) (tradicionalni postupak)

2. Predtretman → reverzna osmoza → međuspremnik za vodu → pumpa za vodu → EDI uređaj → spremnik za pročišćenu vodu → pumpa za čistu vodu → ultraljubičasti sterilizator → miješani sloj za poliranje → 0.2 ili 0.5 μ M Preciznost filter → Vodeni objekt (Veći ili jednak 18M Ω. CM) (najnoviji proces)

3. Predtretman → primarna reverzna osmoza → dozator (PH regulacija) → srednji spremnik vode → sekundarna reverzna osmoza (pozitivno nabijena membrana reverzne osmoze) → spremnik čiste vode → pumpa čiste vode → EDI uređaj → ultraljubičasti sterilizator → 0. 2 ili 0.5 μ M Precizni filtar → Vodeni objekt (Veće ili jednako 17M Ω. CM) (najnoviji proces)

4. Predtretman → reverzna osmoza → međuspremnik za vodu → pumpa za vodu → EDI uređaj → spremnik za čistu vodu → pumpa za čistu vodu → ultraljubičasti sterilizator → 0.2 ili 0.5 μM Precizni filtar → Vodeni objekt ( Veći ili jednak 15M Ω. CM) (najnoviji postupak) 5. Sustav predtretmana → Sustav reverzne osmoze → Srednji spremnik za vodu → Pumpa za čistu vodu → Gruba posuda za miješanje → Posuda za fino miješanje → UV sterilizator → Precizni filtar → Vodeni objekt ( Veći manji ili jednak 15M Ω. CM) (tradicionalni postupak)

Elektronička oprema za čišćenje ultračiste vode uglavnom se koristi za čišćenje aluminijske folije i radnih dijelova u proizvodnji elektrolitskih kondenzatora; Proizvodnja elektroničkih cijevi; Karbonatna otopina za oblaganje katoda za elektronske cijevi; Proizvodni sastojci za CRT i katodne cijevi proizvode se korištenjem crnih i bijelih CRT fluorescentnih zaslona od čiste vode; Čista voda za čišćenje staklenih školjki, taloženje, vlaženje, čišćenje filma i čišćenje vrata; Proizvodnja zaslona s tekućim kristalima; Zaslon je potrebno očistiti čistom vodom, a pročišćena voda se uglavnom koristi za čišćenje silicijskih pločica u proizvodnji tranzistora, dok se mala količina koristi za čišćenje silicijskih pločica vodom visoke čistoće u proizvodnji integriranih krugova pomoću tekućih lijekova

www.superbheater.com