Srednjefrekventna AC magnetronska tehnologija raspršivanja za dvostruku metu raspršivanja uređaja za vakuumsko nanošenje

Srednjefrekventna AC magnetronska tehnologija raspršivanja za dvostruku metu raspršivanja uređaja za vakuumsko nanošenje

U 1980-ima, iako se pojavljivao tek više od deset godina, izdvojio se iz laboratorija i stvarno ušao u područje industrijske masovne proizvodnje. Štoviše, s daljnjim razvojem znanosti i tehnologije, raspršivanje pojačano ionskim snopom uvedeno je u područje nanošenja raspršivača premaza posljednjih godina, koristeći ionski izvor velike struje širokog snopa u kombinaciji s modulacijom magnetskog polja i u kombinaciji s konvencionalnom diodom raspršivanje za formiranje novog načina raspršivanja. Štoviše, izmjenična struja srednje frekvencije uvodi se u ciljni izvor magnetronskog raspršivanja. Ova tehnologija izmjeničnog magnetronskog raspršivanja srednje frekvencije, nazvana dvostrukim metenim raspršivanjem, ne samo da eliminira učinak nestanka anode. Štoviše, problem trovanja katode također je riješen, čime se znatno poboljšava stabilnost magnetronskog raspršivanja. Osigurava čvrst temelj za industrijaliziranu proizvodnju složenih tankih filmova velikih razmjera. Posljednjih godina, oživljavanje i razvoj brzog premazivanja bio je aktivan u tehničkom području vakuumskog premazivanja kao vruće nove tehnologije pripreme tankog filma.

U početnoj fazi stroja za vakuumsko premazivanje, brzina raspršivanja je niska, a brzina stvaranja filma spora.

U početnoj fazi taloženja tankih filmova ovom metodom, postoji niz problema kao što su niska brzina raspršivanja, spora brzina formiranja filma, visoki tlak i inertni plin koji se mora postaviti na uređaj. Stoga je spori razvoj gotovo eliminiran. Samo je mali broj primjena napravljen u materijalima kao što su plemeniti metali, vatrostalni metali, dielektrici i spojevi s jakim kemijskim djelovanjem. Tek 1970-ih, zbog pravovremene pojave magnetronskog raspršivanja, raspršivanje se brzo razvilo i počelo ulaziti na put renesanse. To je zato što metoda magnetronskog raspršivanja može ograničiti elektrone ortogonalnim elektromagnetskim poljima, što povećava vjerojatnost sudara između elektrona i molekula plina, što ne samo da smanjuje napon koji se primjenjuje na katodu, već također poboljšava raspršivanje pozitivnih iona na ciljnu katodu. Brzina smanjuje vjerojatnost bombardiranja supstrata elektronima, čime se smanjuje njegova temperatura, odnosno ima dvije karakteristike, veliku brzinu i nisku temperaturu.

www.superbheater.com